A bejegyzés durumis AI által generált összefoglalója
A Samsung Chemical elindítja a következő generációs litográfiai berendezésekhez szánt CNT pelliklék tömeggyártását, és gyártóberendezést telepít az iwakuni Otaki üzembe Japánban.
A növekvő csúcstechnológiás félvezető-kereslet és az EUV litográfiai technológia egyre szélesebb körű alkalmazása miatt a vállalat olyan CNT pellikleket fog gyártani, amelyek magas áteresztési képességgel és kiváló fényállósággal rendelkeznek.
A gyártás megkezdése várhatóan tovább fokozza a versenyt a japán félvezetőpiacon.
A Samsung Chemical bejelentette, hogy megkezdi a félvezetőgyártáshoz használt, új generációs litográfiai berendezésekben alkalmazott szén nanocső (CNT) pellikül gyártását. A termelés a japán Iwakuni Otaki gyárban (Yamaguchi prefektúra, Waki-cho) létesítendő új gyártósorral valósul meg, amelynek építése 2025 decemberében fejeződik be, az éves termelési kapacitás 5000 darab lesz, a beruházás mértékét egyelőre nem hozták nyilvánosságra.
A Samsung Chemical CNT pellikül gyártásának célja a növekvő csúcstechnológiás félvezető igények kielégítése. A pellikül egy vékony védőréteg, amelyet a fotomaszk (a félvezető áramkörök sablonja) felületére helyeznek, hogy megakadályozzák a karcolások és a por lerakódását, ezzel javítva a litográfiai eljárás termelékenységét.
A mesterséges intelligencia (AI) és más technológiák egyre gyorsabb elterjedésével a félvezetőknek, amelyek a adatfeldolgozást végzik, egyre nagyobb sebességgel és alacsonyabb energiafogyasztással kell működniük. Ezen követelmények kielégítéséhez elengedhetetlen az áramköri vonalak méretének csökkentése, ami a szélsőséges ultraibolya (EUV) litográfiai technológia bevezetéséhez vezet, amelyet egyre szélesebb körben alkalmaznak.
A Samsung Chemical célja, hogy a magas áteresztési képességgel és fényállósággal rendelkező, az EUV litográfiához is alkalmas CNT pellikül forgalmazásával feleljen meg ezen igényeknek. A gyártás megkezdésének döntése várhatóan tovább fokozza a japán félvezető-ipar versenyét.
