Samsung Chemical, Memulai Produksi Massal CNT Pellicle untuk Peralatan Litografi Generasi Berikutnya - Persaingan Industri Semikonduktor di Jepang Semakin Sengit
Samsung Chemical memulai produksi massal CNT pellicle untuk peralatan litografi generasi berikutnya dan membangun fasilitas produksi di pabrik Iwakuuni Otaki, Jepang.
Untuk memenuhi meningkatnya permintaan semikonduktor canggih dan perluasan adopsi teknologi litografi EUV (Extreme Ultraviolet), mereka berencana untuk memproduksi CNT pellicle dengan transparansi dan ketahanan terhadap cahaya yang tinggi.
Diperkirakan produksi massal ini akan memperburuk persaingan industri semikonduktor di Jepang.
Samsung Chemical mengumumkan bahwa mereka akan memproduksi massal pellicle tabung nano karbon (CNT) yang digunakan dalam peralatan litografi (pengukiran) generasi berikutnya untuk pembuatan semikonduktor. Produksi massal ini akan dilakukan dengan memasang fasilitas produksi di pabrik Iwakuuni Otaki (Wakicho, Prefektur Yamaguchi) di Jepang, yang dijadwalkan selesai pada Desember 2025. Kapasitas produksi tahunan adalah 5.000 lembar, dan skala investasinya tidak diungkapkan.
Produksi massal pellicle CNT Samsung Chemical ini merupakan upaya untuk memenuhi meningkatnya permintaan semikonduktor canggih. Pellicle adalah lapisan pelindung tipis yang menempel pada permukaan photomask (piringan sirkuit semikonduktor), berfungsi untuk mencegah goresan dan debu menempel, sehingga meningkatkan produktivitas proses litografi.
Belakangan ini, seiring dengan percepatan penggunaan kecerdasan buatan (AI), semikonduktor yang menangani pemrosesan data dituntut untuk memiliki kemampuan pemrosesan yang cepat dan konsumsi daya yang rendah. Untuk memenuhi kebutuhan tersebut, miniaturisasi lebar garis sirkuit menjadi mutlak diperlukan, dan penerapan teknologi litografi ekstrim ultraviolet (EUV) untuk membentuk sirkuit yang lebih kecil mulai diperluas secara signifikan.
Samsung Chemical berencana untuk memenuhi permintaan tersebut melalui komersialisasi pellicle CNT yang memiliki transmitansi dan ketahanan cahaya yang tinggi, sesuai untuk lingkungan litografi EUV. Keputusan produksi massal ini diperkirakan akan semakin memperketat persaingan industri semikonduktor di Jepang.