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durumis AI 总结的文章
- 三星化學啟動次世代曝光設備用CNT pellicle 量產,並在日本岩國大竹工廠設置生產設施。
- 為因應日益增長的尖端半導體需求以及EUV曝光技術的廣泛導入,計劃生產具有高透光性和耐光性的CNT pellicle。
- 此次量產預計將加劇日本國內半導體產業的競爭
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durumis AI 总结的文章
三星化學宣布將量產用於半導體製造的下一代曝光設備的碳奈米管(CNT)保護膜。此次量產將在日本岩國大竹工廠(山口縣和岐町)設置生產設備,預計於2025年12月完工,年產能為5,000片,投資規模尚未公開。
三星化學此次量產CNT保護膜旨在應對日益增長的先進半導體需求。保護膜是附著在光罩(半導體電路晶圓)表面的一層薄薄的保護層,可防止刮傷和灰塵附著,從而提高曝光製程的生產效率。
近年來,隨著人工智慧(AI)等應用的加速發展,負責數據處理的半導體對高速處理能力和低功耗提出了更高的要求。為了滿足這些需求,必須將電路線寬微細化,而使用極紫外光(EUV)曝光技術來形成微細化電路已開始積極推廣。
三星化學計劃透過將具有高透光率和耐光性的,適用於EUV曝光環境的CNT保護膜商業化,來應對這些需求。此次量產決定預計將進一步加劇日本國內半導體產業的競爭。